干式真空泵的研究现状与未来发展

在上世纪80年代，世界上第一台干式真空泵由英国爱德华公司研制成功，从此也使得真空获得设备的研发和相关行业的生产工艺产生了革新进步。

爱德华公司最初研制出的是三级爪型转子与一级罗茨转子组合的干式泵，它的抽气范围在从大气至1Pa之间，并且能够以相对较低的运行成本与维护费用来获得非常清洁、高质的真空环境。

随后相继又出现了许多不同类型的干式真空泵，针对不同行业对于生产环境的需求，干式真空泵的种类和类型也已经变得十分细化，并且泵的结构设计技术也已经达到相当完备的程度。例如，由德国L-H公司、法国Alctel公司所生产的干式真空泵产品大致可以分为三个系列：

（1）通用系列——主要适用于抽出或传输清洁无腐蚀的被抽气体；

（2）耐腐蚀系列——适合抽除大量携带腐蚀性气体及含少量微尘的真空环境。在该类型泵的理论设计中，为了保护轴封和轴承不受腐蚀气体等的影响，在相应部位设计有气体保护系统。此外，为了防止所携带的大量微尘和反应生成物淀积在泵腔内部，在泵内还设计有惰性气体冲洗系统；

（3）重载系列——这种类型的干式真空泵为一些恶劣的特定环境所设计，其能够连续工作在具有强腐蚀、重污染等的苛刻条件下。

随着数十年的工业科技进步与技术革新，干式真空泵的研发、生产以及应用都已经取得了长足的进步。在各种行业、部门干式真空泵都已经得到了广泛应用，所以按照其所使用的行业不同可以将干式真空泵分为两种类型，即半导体型和石化型。

半导体型干式真空泵是应用于半导体、数码电子等成产工业中，其普遍要求获得清洁”“无油”的真空环境。相比较而言，石化型干式真空泵主要应用于制药、冶金、石化工业生产中。这种类型的干式真空泵的技术着重点是为了得到干燥的抽真空环境，该泵主要用于抽除携带有大量腐蚀性介质、可凝蒸汽、灰尘的气体。

在半导体等相关行业中，对于半导体型干式真空泵的技术要求普遍很高。相比之下，虽然半导体型干式真空泵同样能够完成石化行业的特定要求，但是在实际工作中却存在设备造价偏高，并且抽速小无法达到要求抽气量的问题。所以，又针对化工行业的行业特点，研制出了满足其生产要求的石化型干式真空泵。

我国的真空设备行业情况与国外相比仍有一些不足，比如研发能力差、技术改造滞后、产品雷同等问题普遍存在。近些年来，我国对于干式真空泵的研发也有了很大的提升，无论是在泵的性能、效率还是寿命等方面都已经普遍提高。综合考虑各大厂家对于干泵的研发趋势和大多数行业对于干泵的技术需求特点，能够总结出干式真空泵未来发展的主要趋势为：

（1）发展方向由单级干式真空泵转变为多级组合化、小型化方向、机组化；

（2）工作过程由简单的吸气、排气发展为整体过程处理、回收、无害化排放等更环保更节能的全面处理过程；

（3）朝着更加智能、高度机电一体化、更加可靠的方向发展；

（4）在泵的结构型式的发展方向而言，其中小型泵领域涡旋泵的研究受到普遍青睐，而在大型泵领域绝大多数厂商则更加倾向于螺杆泵的研发生产。

部分摘自《多级罗茨干式真空泵的流动特性研究》