氢氟酸HF自动供液系统-华林科纳
华林科纳半导体CSE-氢氟酸供液系统适用对象:HF、HNO3、KOH、NH4OH、NaOH、H2SO4、HCL、H202、IPA等
主要用途:本设备主要用于湿法刻蚀清洗等制程工程工序需要的刻蚀液集中进行配送,经管道至设备﹔具有自动化程度高,配比精确,操作简便等特点;具有良好的耐腐蚀性能。
控制模式:手动控制模式、自动控制模式
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设备名称 |
华林科纳CSE-氢氟酸(HF)供液系统 |
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设备型号 |
CSE-CDS-N2601 |
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设计基准 |
1.供液系统(Chemica1 Dispense System System)简称:cDs 2. CDs将设豆于化学房内:酸碱溶液CDS系统要求放豆防腐性的化学房: 3.设备材质说明(酸碱类):酸碱溶液CDS外构采以WPP 10T板材,内部管路及组件采PFA 451 H材质; 4.系统为采以化学原液双桶/单桶20L、200L、1t等方式以Pump方式运送到制程使用点: 5.过滤器:配有10”PFA材质过滤器外壳; 6.供液泵:每种化学液体配有两台或者一台PTFE材质的进口隔膜泵: 7.Empty sensor & Leve1 sensor: 酸碱类采用一般型静电容近接开关; 8.所有化学品柜、歧管箱及阀箱均捉供泄漏侦测器与警 功能- |
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CDS系统设备规格 |
1.系统主要功能概述 设备主要功能:每种化学液体配两个桶(自动切换)、配两台泵(一用一备〕、带过滤器: 系统控制单元:配带OMRON 8”形色触摸屏,OMRON品牌PLC系统: 2.操作模式: cDS系统皆有FLC作Unit内部流程控制,操作介面以流程方式执行. 兼具自动化与亲和力. 在自动模式偕形下可自行达成供酸之功能- 在手动模式及维修模式底下可针对单一自动元件操作. 3.设备结构: (1)机架(Frame):盘底SUS方管50x50x1.5T与机体以sUS方管38x38x1.5T方管.全周焊鲲构而成.具有调整脚座. (2)外观:酸碱类系统的外观以WPF被覆. (3)箱体 (一)箱体材质型式 供腐蚀性化学品用之材质为WPP;透明PVc. (二)阀体材质型式 .供腐蚀性化学品用之材质为PFA或PTFE. ( 三)泄洞侦测型式 采静电容式或光电式,须能耐酸殓之浸泡. (四)分流箱(VMB)必耍设施说明 箱体外部须清楚标示其所输送化学品之名称与化学式. 4.设备内部空间规划: (1)配管区:管路流程整齐清楚,操作方便.具有防止喷溅及承接并排放泄洞功能。 (2)电控区:完全密封,可防止酸气侵蚀电接元件. (3)取样区:取样方便只有防止酸液喷溅及排放泄洞功能- (4)桶槽区:方便更换桶槽.,并有链条防止桶槽滑动,有正压及排气功能.保持区域内之洁净度,下方有排放泄洞功能- 5.电控系统︰ (1)空间规划︰完全与酸气隔离的独立空间并有N2 Purge功能.从后方有宽大维修空间. (2)重要元件︰ PLC: OMRON GP: 10” OMRONTouch Empty Sensor & Leve1 sensor:采用静电容近接开关 6.附属滋宜: (1)排气滋豆∶每一个Unit皆配备排气装且(2)每一个Unit皆配备一组DIW GUN. 7.安全保护装宜: (1)洞电断电断路保护装宜 (2)机台底部洞液检知装豆 (3)电按箱正压装豆 (4)E.M.o.滋景 8.适用条件: 所有设备均应满足以下条件; 装豆场所:室内. 标高:海平面1000公尺以下- 环境温度:最高30℃,最低0℃,平均30℃. 相对湿度:最大90 %. |
氢氟酸HF自动供液系统
