研磨液自动供液系统
南通华林科纳半导体CSE-研磨液自动供液系统适用对象: HF、HN03、KOH、NH4OH、NaOH、H2SO4、HCL、H2O2、IPA等
主要用途:本设备主要用于湿法刻蚀清洗等制程工程I序需要的刻蚀液集中进行配送,经管道至设备;具有自动化程度高,配比精确,操作简便等特点:具有良好的耐腐蚀性能。
控制模式:手动控制模式、自动控制模式
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设备名称 |
南通华林科纳CSE-研磨液自动供液系统. |
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设备型号 |
CSE-CDS-N2601 |
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设计基准 |
1.供液系统(Chemical Dispense System System) 简称: CDS . 2. CDS 将设置于化学房内:酸碱溶液CDS 系统要求放置防腐性的化学房; 3.设备材质说明(酸碱类) :酸碱溶液CDS外构采用WPP 10T 板材,内部管路及组件采PFA 451 HP材质; 4.系统为采以化学原液双桶/单桶20L、 200L、1t等方式以Pump方式运送到制程使用 点; 5.过滤器:配有10” PFA材质过滤器外壳; 6.供液泵:每种化学液体配有两台或者一台PTFE材质的进口隔膜泵; 7. Empty Sensor & Level Sensor : 酸碱类采用-般型静电容近接开关; 8.所有化学品柜、歧管箱及阀箱均提供泄漏侦测器与警 功能。 |
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CDS系统设备规格 |
设备主要功能:每种化学液体配两个桶(自动切换)、 配两台泵(一用一备)、 带过滤器; 2.操作模式: cDS系统皆有PL 作Unit内部流程控制,操作介面以流程方式执行, 兼具自动化与亲和力。 在自动模式情形下可自行达成供酸之功能。 在手动模式及维修模式底下可针对单一自动元件操作。 3.设备结构: (1)机架(Frame):盘底SUS方管50x50x1. 5T与机体以SUS方管38x38x1. 5T方管,全周焊架 构而成,具有调整脚座。 (2)外观:酸碱类系统的外观以PP为覆。 (3)箱体 (一)箱体材质型式 供腐蚀性化学品用之材质为PP/透明rvC。 (二)阀体材质型式 . 供腐蚀性化学品用之材质为PFA或FTFE。 (三)泄漏侦测型式 采静电容式或光电式,须能耐酸硷之浸泡。 (四)分流箱 (VMDB)必要设施说明 箱体外部须清楚标示其所输送化学品之名称与化学式。 4.设备内部空间规划: (1)配管区:管路流程整齐清楚,操作方便,具有防止喷溅及承接并排放泄漏功能。 (2)电控区:完全密封,可防止酸气侵蚀电控元件。 (3)取样区:取样方便具有防止酸液喷溅及排放泄漏功能。 (4)桶槽区:方便更换桶槽,并有链条防止桶槽滑动,有正压及排气功能,保持区域内之洁 净度,下方有排放泄漏功能。 5.电控系统: (1)空间规划:完全与酸气隔离的独立空间并有N2 Purge功能,从后方有宽大维修空间。 (2)重要元件: PLC: OMRON GP: 10”OMERON Touch Empty Sensor & Level Sensor :采用静电容近接开关 6.附属装置: (1)排气装置:每一个Unit皆备排气装置 (2)每一个Unit皆配备-组DIW GUNT. 7.安全保护装置: (1)漏电断电断路保护装置 (2)机台底部漏液检测装置 (3)电控箱正压装置 (4) E.M. 0.装置. 8.适用条件 所有设备均应满足以下条件: 装置场所:室内。 标高:海平面1000公尺以下。. 环境温度:最高30°C, 最低0C,平均30C。 相对湿度:最大90 %。 |
